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1200℃管式爐CVD系統廣泛適用于高、中、低溫CVD工藝，如：碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結構的可控生長等等；也可適用于金屬材料的擴展焊接以及真空或保護氣氛下熱處理.
SGM 1200℃管式爐CVD系統專門設計用于高溫材料沉積之用。1200℃管式爐CVD系統具有溫度均勻、控制穩定、溫區間溫度擾動小、升溫速度快、節能、使用溫度高、壽命長等特點。
1、1200℃管式采用優質電爐絲加熱。
2、爐管為剛玉爐管爐膛,
3、可預抽真空,便于通入參加反應的氣體,進口單回路智能溫度控制儀控制、溫區設計隔板結構。
4、管式爐有單管、雙管、臥式、可開啟式、立式、單溫區、雙溫區、三溫區等多種管式爐型。
豫公網安備 41030502000243號
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